Автоматизированная шлюзовая установка плазмохимического и ионнохимического травления, Carolina PE15

На установке реализованы следующие технологии: • субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO2, Si3N4) со скоростями порядка 1 мкм/мин., включая пьезокварцевые подложки на глубину более 100 мкм.; • травление металлов, в том числе и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений. Травление производилось через резистивные и металлические маски (скорость травления по золоту более 0,2 мкм/мин.); • травление монокристаллического кремния в различных типах процессов. Конструкция установки позволяет применение «криогенного стола». Скорость травления кремния ограничена только откачными средствами и в одном из вариантов процесса достигала 5 мкм/мин.; • травление арсенида и нитрида галлия в производстве полупроводниковых лазеров и светодиодов, в том числе областей под омические контакты.; • травление полиимида с высокими скоростями, снятие резиста; • травление или отжиг в плазме водорода или в атомарном водороде; Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку (опция).